UH225M-L(R)423

NC伺服定位器本體
動作形態(tài)：直交型
自由度：3
行程： 400mm(X)*200mm(Y)*300(Z)
負(fù)載：225kg
***高速度：250mm/s
重復(fù)定位精度：±0.02mm
外形尺寸：932mm(X)*561mm(Y)*760(Z)
本體重量：285kg

NC伺服定位器本體
負(fù)載：225kg

特點(diǎn)

產(chǎn)品多樣化

根據(jù)中國市場需求開發(fā)的三款NC伺服定位裝置。 ※客戶如有特殊定制需求請?zhí)崆奥?lián)系我們。

編程簡易化

左右對稱的產(chǎn)品構(gòu)造可以縮短設(shè)備調(diào)試時(shí)間。

設(shè)計(jì)人性化

側(cè)面法蘭設(shè)計(jì)方便拆卸夾具。

NC伺服定位器本體參數(shù)如下：

項(xiàng)目  \  機(jī)型		UH225M
型號		UH225M-L/R223	UH225M-UR423	UH225M-L/R623
動作形態(tài)		直交型		直交型
自由度		3		3
靜止時(shí)***大耐負(fù)載		225kg		225kg
動作范圍	X軸	200mm	400mm	600mm
	Y軸	200mm		200mm
	Z軸	300mm		300mm
***大速度	X軸	250mm/s		250mm/s
	Y軸	250mm/s		250mm/s
	Z軸	250mm/s		250mm/s
重復(fù)定位精度		±0.05mm		±0.02mm
主體重量		260kg	285kg	315KG
電源容量		AC380V三相四線制（自帶外置變壓器）		AC380V三相四線制（自帶內(nèi)置變壓器）
安裝環(huán)境	溫度	0~45℃		0~45℃
	濕度	20~80%RH(無凝露)		020~80%RH(無凝露)
	振動加速度	4.9m/s²(0.5G)		4.9m/s²(0.5G)
	其他	不可接觸易燃性、腐蝕性氣體、液體。 不可接觸水、油、粉塵等。 遠(yuǎn)離電氣噪聲源。		不可接觸易燃性、腐蝕性氣體、液體。 不可接觸水、油、粉塵等。 遠(yuǎn)離電氣噪聲源。

*1:上表所示為SI單位制。但是（）內(nèi)為重力單位制。
*2:重復(fù)定位精度依照J(rèn)IS B8432。

 

NC伺服定位器控制柜參數(shù)如下：

產(chǎn)品名		MNC1000
構(gòu)造		防塵構(gòu)造 IP54
外形尺寸		800mm（寬）*500mm（深）*1600mm（高）
質(zhì)量*1		110kg
冷卻方式		強(qiáng)冷風(fēng)扇
周圍溫度		通電時(shí) : 0 °C +45°C，保管時(shí) : -10 °C +60°C
相對濕度		***大90%（無結(jié)露）
海拔		2000 m (但會存在溫度延遲) (注)海拔1000m以上時(shí)：***大周圍溫度每增高100m減少1%。
電源規(guī)格		中國規(guī)格：三相AC380V~440V（+10%~-15%）50/60Hz（±2%）（中性點(diǎn)接地）
接地		D種接地（200 V級）　C種接地（400 V級）
輸入輸出信號		16DI/DO
位置控制方式		串聯(lián)通信方式（***值編碼器）
存儲容量		閃存容量：40MB（用戶范圍：31MB ） SDRAM容量：256MB
上位通訊方式		Profinet等
LAN(上位連接)		3個(gè)
控制方式		運(yùn)動控制
驅(qū)動單元		AC伺服用伺服包

示教編程器規(guī)格		Kinco 步科
型號		SZ7ES
外形尺寸		220mm（寬）*45mm（深）*156mm（高）
大約質(zhì)量		0.730 kg
材質(zhì)		工程塑料
操作		以太網(wǎng)口 USB HOST 急停開關(guān) 三選擇開關(guān) 握持開關(guān)
顯示		7英寸TFT彩色液晶，觸摸屏VGA（800*480） （漢字，英數(shù)字，其他）
保護(hù)等級		IP54
電纜長		標(biāo)準(zhǔn)：10m

為客戶提供各工位的數(shù)字化解決方案：NC伺服定位器生產(chǎn)異常監(jiān)視功能

通過安川的YaskawaCockpit（簡稱YCP）平臺，對各工位的安川品牌機(jī)器人和NC伺服定位裝置進(jìn)行高頻率的數(shù)據(jù)收集，可以分析、監(jiān)視并顯示NC伺服定位器的運(yùn)行狀態(tài)，實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)可追溯性，也可以幫助客戶對產(chǎn)品品質(zhì)進(jìn)行分析，盡快找到問題的原因所在。